光譜橢偏儀是一種高精度的光學(xué)測量儀器，主要用于分析材料的光學(xué)性質(zhì)(如折射率、消光系數(shù))、薄膜厚度(從納米到微米級)以及表面/界面的微觀結(jié)構(gòu)信息。其核心原理是利用光的偏振狀態(tài)在材料表面反射或透射后的變化，通過解析這種變化反推材料的物理特性，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)薄膜、納米材料、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。

　　該設(shè)備在操作時可以不接觸、無損測量，不破壞樣品；厚度測量可達(dá)亞納米級；無需標(biāo)記或預(yù)處理，適用于多種材料。

　　選購光譜橢偏儀時可以關(guān)注以下幾點(diǎn)：

　　1、光譜范圍：根據(jù)測量材料的光學(xué)特性選擇合適的光譜范圍。例如，透明材料需關(guān)注折射率光譜區(qū)域，短波吸收材料可擴(kuò)展至紅外透明區(qū)域以確定厚度。

　　2、測量精度與重復(fù)性：精度是核心指標(biāo)，需通過標(biāo)準(zhǔn)樣品(如空氣)驗(yàn)證準(zhǔn)確性；重復(fù)性則反映儀器穩(wěn)定性，需多次測量對比結(jié)果。

　　3、入射角方式：多角度測量可提高可靠性，但并非所有場景都需要。多層膜、吸收膜等復(fù)雜結(jié)構(gòu)需多角度測量，而簡單薄膜單角度即可。

　　4、分析軟件：橢偏儀測量為非直接測量，數(shù)據(jù)需擬合分析。軟件應(yīng)具備豐富的材料數(shù)據(jù)庫、靈活的模型構(gòu)建能力和高效的算法，以支持快速、準(zhǔn)確的參數(shù)反演。

　　5、硬件配置：根據(jù)需求選擇旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器、自動變角基座、匯聚束技術(shù)等硬件。